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资源类型

1. 纸质资源 (38)
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图书馆

1. 武汉理工大学图书馆 (38)
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馆藏地点

1. 西院博硕论文库 (25)
2. 西院西文图书保存本库 (8)
3. 南湖外文图书借阅区 (4)
4. 南湖图书借阅区 (1)
5. 西院中文图书借阅区 (1)
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主题

1. 化学气相沉积 (10)
2. chemical vapor deposition (8)
3. vapor-plating (5)
4. graphene (4)
5. 石墨烯 (4)
6. laser chemical vapor deposition (3)
7. 激光化学气相沉积 (3)
8. 3c-sic (2)
9. chloride-based chemical vapor deposition (2)
10. diamond film (2)
11. intermediate frequency induction heating (2)
12. mpcvd (2)
13. preferred orientation (2)
14. refractory coating (2)
15. 中频感应加热 (2)
16. 择优取向 (2)
17. 氯化物化学气相沉积 (2)
18. 立方碳化硅 (2)
19. 金刚石薄膜 (2)
20. (lcvd (1)
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著者

1. 涂溶 (7)
2. international conference on chemical vapor deposition (3)
3. electrochemical society (2)
4. 徐青芳 (2)
5. 章嵩 (2)
6. american ceramic society (1)
7. bernard, c (1)
8. blocher, j.m., (1)
9. chemical vapor deposition of refractory metals and ceramics : (1)
10. cullen, glenn wherry, (1)
11. desu, seshu b (1)
12. ducarroir, m (1)
13. european conference on chemical vapour deposition (1)
14. gallois, bernard m (1)
15. gleason, karen k., (1)
16. hough r.l (1)
17. jensen, klavs f., (1)
18. lee, woo y (1)
19. materials research society (1)
20. matsumura, h (1)
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出版日期

1. 2020 (1)
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文献类型

1. 学位论文 (25)
2. 图书（纸本） (13)
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语言种类

1. 汉语 (12)
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在馆

1. 在馆 (38)
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