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1.
Sputtered thin film research.
订购中
著者:
出版社:
s.n.],
出版日期: 1976.
文献类型:
图书(纸本) , 索书号:
73.73/S562
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内容简介
著者简介
2.
Sputtering by particle bombardment /
订购中
著者:
Behrisch
Rainer.
出版社:
Springer-Verlag,
出版日期: 1981-c1991.
文献类型:
图书(纸本) , 索书号:
O48/B421
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内容简介
著者简介
3.
Sputtering materials for VLSI and thin film devices /
订购中
著者:
Jaydeep Sarkar.
出版社:
William Andrew,
出版日期: 2014.
文献类型:
图书(纸本) , 索书号:
TN604/S245
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内容简介
著者简介
4.
Vacuum technology, thin films, and sputtering : an introduction /
订购中
著者:
R.V. Stuart.
出版社:
Academic Press,
出版日期: 1983.
文献类型:
图书(纸本) , 索书号:
71.7/S932
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内容简介
著者简介
5.
Sputtering for the production of electronic components.
订购中
著者:
出版社:
[s.n.],
出版日期: 1976.
文献类型:
图书(纸本) , 索书号:
73.61/S772
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内容简介
著者简介
6.
Thin film materials technology : sputtering of compound materials /
订购中
著者:
Kitabatake
Makoto.
Adachi
Hideaki.
出版社:
William Andrew Pub. ;
出版日期: c2004.
文献类型:
图书(纸本) , 索书号:
TB43/W312
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内容简介
著者简介
7.
Glow discharge processes : sputtering and plasma etching /
订购中
著者:
Brian Chapman.
出版社:
Wiley,
出版日期: 1980.
文献类型:
图书(纸本) , 索书号:
73.65/C466
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内容简介
著者简介
8.
Sputter coating of titanium carbide on cutting tools /
订购中
著者:
Wright
RObert J.
出版社:
DOW chemical U.S.A,
出版日期: 1972.
文献类型:
图书(纸本) , 索书号:
TG506/M214
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内容简介
著者简介
9.
Handbook of sputter deposition technology : fundamentals and applications for functional thin films, nano-materials and MEMS /
订购中
著者:
Wasa
Kiyotaka.
Kanno
Isaku.
Kotera
Hidetoshi.
出版社:
William Andrew,
出版日期: 2012.
文献类型:
图书(纸本) , 索书号:
TQ153-62/H236(2)
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内容简介
著者简介
10.
Thin films. v.26,. PVD for microelectronics:Sputter deposition applied to semiconductor manufacturing /
订购中
著者:
Rossnagel
Stephen M.
出版社:
Academic Press,
出版日期: 1999.
文献类型:
图书(纸本) , 索书号:
TN403/P885
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