HEA|  |02223nam0 2200349   450 
001|  |000005510482
005|  |20230314093415.8
010|  |▼a978-7-122-41908-8▼b精装▼dCNY298.00
099|  |▼aCAL 012023015226
100|  |▼a20230314d2022    em y0chiy50      ea
101|1 |▼achi▼ceng
102|  |▼aCN▼b110000
105|  |▼aacfka   000yy
106|  |▼ar
200|1 |▼a表面去污技术及应用▼Abiao mian qu wu j-
   |  |i shu ji ying yong▼f(美) 雷吉维·科里-
   |  |, (美) 卡什米里·拉尔·米塔尔主编▼d= Develop-
   |  |ments in surface contamination-
   |  | and cleaning▼hVol. 11▼iApplic-
   |  |ations of cleaning techniques▼-
   |  |fRajiv Kohli, K. L. Mittal▼g李战-
   |  |国, 李健, 王毅等译▼zeng
210|  |▼a北京▼c化学工业出版社▼d2022
215|  |▼a573页, [8] 页图版▼c图 (部分彩图), 肖像▼d27cm
305|  |▼a据2019年版原文译出
306|  |▼a本版由ELSEVIERINC.授权化学工业出版社有限公司-
   |  |在中国大陆地区 (不包括香港、澳门以及台湾地区) 出版发行-
320|  |▼a有书目
330|  |▼a本书详细阐述了超声、可剥离涂层、二氧化碳雪、固体二氧化碳-
   |  | (干冰)、液体二氧化碳、超临界二氧化碳、激光、等离子体、紫-
   |  |外-臭氧、静电、高速冲击空气射流、微磨、微生物、离子液体、干-
   |  |蒸汽等一系列表面去污技术原理、工艺参数及其影响因素、应用案例-
   |  |、成本效益和优缺点等，是对近年来表面去污技术最新进展的全面而-
   |  |系统的总结。这些去污技术不仅在传统工业清洗领域有广泛的应用，-
   |  |在半导体晶片和集成电路、精密仪器设备、核工业放射性表面污染、-
   |  |食品加工、医疗等特殊领域也有着良好的应用前景。-
500|10|▼aDevelopments in surface cont-
   |  |amination and cleaning▼hVol. 1-
   |  |1▼iApplications of cleaning te-
   |  |chniques▼mChinese
606|0 |▼a金属表面清理▼Ajin shu biao mian qing li
690|  |▼aTG176▼v5
701| 1|▼a科里▼Ake li▼g(Kohli, Rajiv)▼4主编
701| 1|▼a米塔尔▼Ami ta er▼g(Mittal, K. L.)▼4主编
702| 0|▼a李战国▼Ali zhan guo▼4译
702| 0|▼a李健▼Ali jian▼4译
702| 0|▼a王毅▼Awang yi▼4译
801| 0|▼aCN▼b百万庄▼c20221214
801| 2|▼aCN▼bWHUTL▼c20230314
998|  |▼aPUL

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