名称: | |
描述: | |
公开/私有: | 公开 私有 |
HVPE法生长自支撑GaN单晶及其性质研究 |
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题名/责任者:
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HVPE法生长自支撑GaN单晶及其性质研究 / 田媛著 |
ISBN:
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978-7-5517-2274-2 价格: CNY48.00 |
语种:
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汉语 |
载体形态:
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106页 : 图 ; 26cm |
出版发行:
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沈阳 : 东北大学出版社, 2019 |
内容提要:
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本书介绍了获得高质量自支撑GaN单晶的方法,内容包括采用低温缓冲层技术生长自支撑GaN单晶、在SiC的C面直接生长自支撑GaN单晶、高温退火法表征GaN中的位错、采用高温退火衬底生长自支撑GaN单晶、采用两步腐蚀衬底生长自支撑GaN单晶等。 |
主题词:
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单晶 晶体生长 研究 |
中图分类法
:
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O782 版次: 5 |
主要责任者:
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田媛 著 |
使用对象附注:
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本书适用于半导体材料研究人员 |
标签:
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相关主题:
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相关资源:
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分享资源:
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