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完美曝光

题名/责任者:
完美曝光 / (美) Rick Sammon著 , 张波译
ISBN:
978-7-115-21580-2 价格: CNY65.00
语种:
汉语
载体形态:
14, 215页 : 图 (部分彩图) ; 26cm
出版发行:
北京 : 人民邮电出版社, 2010
内容提要:
本书讲解了曝光在摄影中的重要作用,以及获取出色曝光的途径和技法。分析不同类型的光线、感光度和白平衡设置、曝光模式和测光模式选择、包围曝光和曝光补偿等,并介绍了闪光灯曝光、色彩模式、自然光控制、直方图、Photoshop后期处理等知识。
主题词:
曝光 摄影技术
中图分类法 :
TB811 版次: 4
主要责任者:
沙蒙
次要责任者:
张波
责任者附注:
责任者Sammon规范汉译姓: 沙蒙
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